Þann 4. júní, samkvæmt fjölmiðlum, tilkynntu belgíska Microelectronics Research Center (IMEC) og ASML stofnun sameiginlegrar High NA EUV Lithography Laboratory í Veldhoven, Hollandi.
Eftir margra ára vandlega smíði og samþættingu er þessi rannsóknarstofa nú að fullu undirbúin og mun veita háþróaða tæknilega aðstoð til leiðandi alþjóðlegra framleiðenda rökfræði og geymsluflísa sem og háþróaðra efna og búnaðarbirgða.
Kjarnabúnaður rannsóknarstofunnar er frumgerð EUV skanni með háum töluopum (TWINSCAN EXE: 5000), ásamt tilheyrandi vinnslu- og mælitækjum, sem sameiginlega munu stuðla að byltingum í flísaframleiðslu í framtíðinni.
Opnun þessarar sameiginlegu rannsóknarstofu er talin mikilvægur áfangi í undirbúningsferlinu fyrir fjöldaframleiðslu með háum NA EUV tækni. Iðnaðurinn býst við því að með stöðugum þroska og vinsældum þessarar tækni muni hún hefja umfangsmikla fjöldaframleiðslu á milli 2025 og 2026.
Þess má geta að Asma hefur áður sýnt opinberlega nýjustu kynslóð High NA EUV steinþrykksvéla. Þessi steinþrykkjavél hefur gríðarlegt rúmmál, sem jafngildir tveggja hæða rútu, og vegur allt að 150 tonn.
Vegna mikillar stærðar og flókins samsetningarferlis þarf að pakka búnaðinum í 250 aðskildar flatar núðlur til flutnings, sem sýnir óvenjulegar áskoranir þess í framleiðslu- og flutningsferlinu.
Þrátt fyrir háan framleiðslukostnað High NA EUV steinþrykksvélarinnar, sem að sögn er verðlagður á 350 milljónir evra (um það bil 2,7 milljarðar júana), er verðmæti hennar á sviði hálfleiðaraframleiðslu ómælanlegt. Það mun verða nauðsynlegt vopn fyrir þrjá helstu oblátuframleiðendur heimsins til að ná fram stórframleiðsla á háþróuðum ferlum undir 2nm.